RAVI Born to Shine Restructuring Mask (Reconstruction Line n°3), 250 ml

Uudistava hiusnaamio rasittuneille hiuksille

39,99 €

(159,96 € / l, sis. 25,5% alv. - plus toimituskulut )

Sisältö: 250 ml

Vielä 3 kpl varastossa

Toimitus maanantaina, 27. heinäkuuta mennessä, jos tilaat viimeistään sunnuntaina kello 23:59

Suomi: Ilmainen vakiotoimitus alkaen 79,90 €
Lisätietoja lähetyksestä ja toimituksesta

Ominaisuudet ja edut

  • Sopii kaikille hiustyypeille
  • Ravitseva
  • Sisältää Keratin
  • Eksklusiivinen koostumus

Tämän tuotteen kanssa ostetaan usein myös: RAVI Born to Shine Restructuring Shampoo (Reconstruction Line n°1), 250 ml

RAVI Born to Shine Restructuring Mask (Reconstruction Line n°3), 250 ml 39,99 € (159,96 € / l)
RAVI Born to Shine Restructuring Shampoo (Reconstruction Line n°1), 250 ml 32,99 € (131,96 € / l)
Kokonaishinta: 72,98 €
Kuvaus

Vahvistava ja intensiivisesti ravitseva hiusnaamio

RAVI:n Restructuring Mask on ravitseva ja hoitava hiusnaamio, joka tukee kaikkien hiustyyppien uusiutumista. Laadukkaan Keratinin ja muiden luonnollisten uutteiden ansiosta, jotka sisältyvät sen eksklusiiviseen koostumukseen, se antaa pitkäkestoisen tunteen vahvemmista hiuksista.

Parhaan tuloksen saavuttamiseksi Restructuring Mask käytetään kolmantena tuotteena Restructuring Shampoon ja Restructuring Conditionerin jälkeen.

Käyttöohje:
Levitä hiustenpesun jälkeen tasaisesti koko hiuksiin. Aloita latvoista ja jaa huolellisesti pituuksiin. Anna vaikuttaa noin 10 - 15 minuuttia ja huuhtele sen jälkeen huolellisesti.

Tuotenro.: RAV-7
Sisältö: 250 ml
EAN: 8054301804821
Valmistajan nro: 7
Merkki: RAVI Born to Shine
Tuotesarjat: Naamiot
Hiustyyppi: Kaikille hiustyypeille
Sopiva: Hiukset
Tuoteseloste (INCI)

Aqua, Cetearylalcohol, Cetrimoniumchlorid, Triticum Vulgare Germ Oil, Simmondsia Chinensis (Jojoba) Seed Oil, Cyclopentasiloxane, Propylene, Panthenol, Parfum, Hydrolyzed Keratin, Phenoxyethanol, Benzyl Alcohol, Lactic Acid, Potassium Sorbate, Hydrolized Wheat Protein, Benzyl Salicylate, Alpha-Isomethyl Ionone, Hexyl Cinnamal, Citronellal, Tetrasodium Glutamate Diacetate, Ethylhexylglycerin

Lisätarvikkeet
  • placeholder

  • placeholder

  • placeholder

  • placeholder

Sopii hyvin tähän

  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder

Samankaltaiset tuotteet

  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder
  • placeholder

Asiakkaidemme antamat arvostelut

kirjoitettu arvostelu kielellä suomi tuotteesta RAVI Born to Shine Restructuring Mask (Reconstruction Line n°3)